Система AMD 2: градиентное элюирование в ВЭТСХ

CAMAG AMD позволяет решать задачи, которые невозможно получить с помощью обычной ТСХ. Только с помощью AMD можно выполнять воспроизводимое градиентное элюирование на пластинах с силикагелем. В ВЭЖХ градиентное элюирование выполняется только с обращенно-фазными колонками, а не на силикагеле для которого градиентное элюирование не приемлемо. Для ВЭТС Х это не является критичным.

AMD = Автоматическое Многократное Элюирование

Принцип работы CAMAG AMD

• ВЭТС Х пластина элюируется многократно в одном том же направлении. В каждом последующем шаге дистанция фронта увеличивается.
• По окончании каждого шага элюент полностью удаляется с пластины вакуумированием камеры.
• В каждом последующем шаге полярность элюента снижается и формируется так называемый ступенчатый градиент.
• Комбинация эффекта “фокусирования“ и градиентного элюирования позволяет получать очень узкие зоны с шириной пика около 1 мм, что подразумевает полное разделение до 40 компонентов на дистанции 80 мм.

AMD 2 с программой winCAT S

AMD 2 управляется с помощью программы winCAT S. Задание градиента до 5 растворителей вводится из программы и индицируется графически наряду с дистанцией фронта. Выполнение программы элюирования осуществляется полностью автоматически